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近日，“筑基強國路——中國制造‘十四五’成就展”在中國國家博物館開幕。展覽以制造業(yè)智能化、綠色化、融合化以及產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)高級化和產(chǎn)業(yè)鏈現(xiàn)代化為敘事主線，重點展示原材料、裝備、消費品、電子信息等行業(yè)領(lǐng)域共300余件（套）展品。
浙江奧首材料科技有限公司（以下簡稱“奧首材料”）自主研制的四款產(chǎn)品——光刻膠清洗劑ISP800、光刻膠清洗劑ISP1100、低溫固化光敏聚酰亞胺光刻膠和等離子切割保護材料，作為“高端制造”與“產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)”板塊的標(biāo)志性成果精彩亮相，在國家級舞臺上展現(xiàn)硬核實力。
這四款產(chǎn)品主要面向芯片、先進封裝等國家當(dāng)前重點發(fā)展的前沿領(lǐng)域。產(chǎn)品的研發(fā)應(yīng)用有助于提升國內(nèi)芯片制造的工藝水平、產(chǎn)品良率和長期可靠性，同時降低對羥胺等特定進口原材料依賴，進一步增強我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控能力。奧首材料通過攻克配方設(shè)計、工藝兼容、平衡性能等一系列具體難題，在高端半導(dǎo)體材料領(lǐng)域建立起差異化的競爭優(yōu)勢。
此次入選展覽，是對奧首材料堅持自主創(chuàng)新、全力突破“卡脖子”技術(shù)路徑的高度認可。面向未來，奧首材料將繼續(xù)以科技創(chuàng)新為驅(qū)動，緊密圍繞產(chǎn)業(yè)發(fā)展前沿需求，持續(xù)攻堅下一代關(guān)鍵核心技術(shù)，助推中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展。
（圖片來源：衢州智造新城）
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